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【3000～5000万円】ケミカル洗浄装置プロセス開発専門家
| 採用企業 | Kingsemi Japan株式会社 |
| 勤務地 | 東京都 23区 |
| 雇用形態 | 正社員 |
| 給与 | 3000万円 ~ 5000万円 |
募集要項
【求人No NJB2289776】
【Responsibilities仕事内容】
1.シングルウェハ式洗浄装置（枚葉式洗浄装置）プロセス開発を担当。
2.プロセスエンジニアの日常業務管理を担当し、プロセスエンジニアチームの育成を行う。装置に対する理解度とプロセス開発能力を向上させるとともに、会社のフィールドサービスエンジニア（FE）へのプロセスサポート研修を実施。
3.既存装置を基にプロセスの最適化を行い、プロセスの安定性と一貫性を向上させる。また、顧客の要求に応じたCIPプロセスの開発を行い、クライアント側のプロセス問題を解決する。さらに、顧客現場における当社装置の立ち上げプロセス調整フローを確立・最適化。
4.装置のプロセス結果分析および市場の技術発展動向を踏まえ、設計部門と協力し、既存装置のハードウェア・ソフトウェア改良に向けた実行可能な革新的提案を行う。また、新装置の開発に対する先見的な技術サポートを提供する。
【レポートライン】：技術副社長（VP）
応募必要条件
| 職務経験 | 無し |
| キャリアレベル | 中途経験者レベル |
| 英語レベル | 日常会話レベル |
| 日本語レベル | ネイティブ |
| 最終学歴 | 専門学校卒 |
| 現在のビザ | 日本での就労許可が必要です |
スキル・資格
【応募要件】
1. 半導体業界で10年以上の勤務経験があり、ケミカル洗浄装置の動作原理や技術発展のトレンドを深く理解し、国際最先端技術にも精通していること。
2. 5年以上の異分野チームの管理経験を有すること。
3. 専門的な分析と判断を通じて技術的な問題を解決する能力、および技術成果を文書や口頭でまとめ、抽出し、発表する能力。
4. 誠実で協調性があり、革新を恐れず、高い責任感と仕事への熱意を持っていること。
勤務地
- 東京都 23区
労働条件
| 雇用形態 | 正社員 |
| 給与 | 3000万円 ~ 5000万円 |
| 勤務時間 | 09:00 ～ 17:00 |
| 休日・休暇 | 【有給休暇】入社7ヶ月目には最低10日以上 【休日】完全週休二日制 土 日 祝日 年末年始 |
| 業種 | 機械 |
職種
- 技術系（電気・電子・半導体） > 設計・開発エンジニア
- 技術系（電気・電子・半導体） > 生産技術・製造技術・エンジニアリング（電気・電子・半導体）
- 技術系（機械・メカトロ・自動車） > 設計・開発エンジニア
会社概要
| 会社の種類 | 外資系企業 |
