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採用企業 | TopoLogic株式会社 |
勤務地 | 東京都 23区, 文京区 |
雇用形態 | 正社員 |
給与 | 400万円 ~ 700万円 |
磁気メモリに使用するデバイス構造およびプロセスフローの開発を担当して頂きます。ゆくゆくは、デバイス/プロセス開発チームのリーダーを担える人材に成長してもらえればと考えております。
(業務内容)
・デバイス試作(スパッタリング装置を用いたトポロジカル物質の成膜、露光装置を用いたフォトリソグラフィー、エッチング装置を用いたエッチング)
・デバイス評価(テスターを用いた試作デバイスの特性評価)
・半導体開発チーム内への報告および開発プロジェクト進行に対する提言
・デバイス開発に係る協業先企業とのコミュニケーション
・(将来的に)デバイス/プロセスチームのマネジメント
職務経験 | 1年以上 |
キャリアレベル | 中途経験者レベル |
英語レベル | 無し (英語使用比率: 10%程度) |
日本語レベル | 流暢 |
最終学歴 | 高等学校卒 |
現在のビザ | 日本での就労許可が必要です |
(必須要件)
・半導体工場での勤務経験(1年以上)
・ネイティブレベルの日本語力
(歓迎要件)
・スパッタリング装置/露光装置/エッチング装置/テスターの使用経験
・ビジネスレベルの英語力(あれば、海外パートナーとの協議に参加して頂きます)
・スタートアップ企業での勤務経験
・磁性体研究の経験 (薄膜・トポロジカル反強磁性体であれば尚良し)
雇用形態 | 正社員 |
給与 | 400万円 ~ 700万円 |
勤務時間 | 9:00~17:00 (フレックス可) |
休日・休暇 | 完全週休二日制+祝日 (副業/パートタイム相談可) |
配属部署 | 半導体事業部 |
業種 | 電気・電子・半導体 |
会社の種類 | 中小企業 (従業員300名以下) |
外国人の割合 | (ほぼ)全員日本人 |