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Hiring Company | TopoLogic株式会社 |
Location | Tokyo - 23 Wards, Bunkyo-ku |
Job Type | Permanent Full-time |
Salary | 4 million yen ~ 7 million yen |
磁気メモリに使用するデバイス構造およびプロセスフローの開発を担当して頂きます。ゆくゆくは、デバイス/プロセス開発チームのリーダーを担える人材に成長してもらえればと考えております。
(業務内容)
・デバイス試作(スパッタリング装置を用いたトポロジカル物質の成膜、露光装置を用いたフォトリソグラフィー、エッチング装置を用いたエッチング)
・デバイス評価(テスターを用いた試作デバイスの特性評価)
・半導体開発チーム内への報告および開発プロジェクト進行に対する提言
・デバイス開発に係る協業先企業とのコミュニケーション
・(将来的に)デバイス/プロセスチームのマネジメント
Minimum Experience Level | Over 1 year |
Career Level | Mid Career |
Minimum English Level | None (Amount Used: English usage about 10%) |
Minimum Japanese Level | Fluent |
Minimum Education Level | High-School |
Visa Status | Permission to work in Japan required |
(必須要件)
・半導体工場での勤務経験(1年以上)
・ネイティブレベルの日本語力
(歓迎要件)
・スパッタリング装置/露光装置/エッチング装置/テスターの使用経験
・ビジネスレベルの英語力(あれば、海外パートナーとの協議に参加して頂きます)
・スタートアップ企業での勤務経験
・磁性体研究の経験 (薄膜・トポロジカル反強磁性体であれば尚良し)
Job Type | Permanent Full-time |
Salary | 4 million yen ~ 7 million yen |
Work Hours | 9:00~17:00 (フレックス可) |
Holidays | 完全週休二日制+祝日 (副業/パートタイム相談可) |
Job Division | 半導体事業部 |
Industry | Electronics, Semiconductor |
Company Type | Small/Medium Company (300 employees or less) |
Non-Japanese Ratio | (Almost) All Japanese |